(티니뉴스)

아시아의 선도적인 제조자개발생산(Original Design Manufacturer, ODM) 업체인 킨코 옵티컬(Kinko Optical Co., LTD., 이하 킨코)이 베넥(Beneq)의 C2R™ 플라즈마 강화 공간 원자층증착(ALD) 시스템을 도입했다. 이번 도입으로 킨코는 파트너사를 위한 회절 광도파로(웨이브가이드)용 고굴절률·저손실 갭필링 광학 코팅을 대량 생산할 수 있는 입지를 다지게 됐다.

확장현실(eXtended Reality, XR) 분야는 XR 글래스 등 소비자 가전에서의 몰입형 증강현실(AR) 경험에 대한 수요에 힘입어 빠르게 성장하고 있다. 최근 몇 년 동안 글로벌 선도 기술 기업 및 주문자상표부착생산(OEM) 업체들이 대규모 투자와 혁신을 주도해 왔다. XR 글래스의 핵심에는 디지털 이미지를 현실 세계에 매끄럽게 오버레이하는 데 필수적인 AR 광도파로가 있다. 최적의 성능을 구현하기 위해 고급 표면 릴리프 격자(SRG+)와 나노 임프린트 리소그래피(NIL)가 소비자 애플리케이션의 성능, 생산 및 비용 요구 사항을 충족하는 선도적인 플랫폼으로 자리 잡고 있다.

그러나 이러한 기술로 만들어지는 복잡한 3D 나노구조는 기존 코팅 방식에 상당한 어려움을 안겨주며, 기존 방식으로는 필요한 성능을 달성하지 못하는 경우가 많다. 따라서 효율성, 밝기, 내구성을 향상시키는 동시에 확장 가능한 고성능 제조를 구현하기 위해서는 첨단 광학 코팅이 매우 중요하다. 베넥의 C2R™은 이러한 요구를 충족하며, 타협 없는 성능을 제공해 제조업체가 차세대 AR 기기의 엄격한 기준을 달성할 수 있도록 지원한다.

앵거스 우(Angus Wu) 킨코 옵티컬 최고기술책임자(CTO)는 “킨코는 45년 이상의 정밀 광학 경험을 바탕으로 글로벌 기술 파트너를 위한 고성능 광학 부품 구현에 필요한 첨단 기술 도입을 선도해 왔다”며 “우리는 코팅 품질, 탁월한 단차 피복성(conformality), 첨단 광학에 필수적인 고굴절률·저손실 소재 구현 능력에서 ALD의 잠재력을 일찍이 인식했다. 베넥의 C2R™을 통해 복잡한 구조의 정밀도를 유지하면서 진정한 대량 생산을 위한 저온 처리와 타의 추종을 불허하는 증착 속도를 결합하여 타협 없는 성능을 달성하고 있다. 이를 통해 AR 광도파로 상용화를 가속하고 몰입감 있고 원활한 소비자 경험을 제공하는 차세대 XR 글래스에 동력을 공급할 수 있게 됐다”고 설명했다.

또한 “베넥의 C2R™을 통해 이제 우리는 타협 없는 성능을 달성하고 있다. 이를 통해 AR 광도파로 상용화를 가속하고 차세대 XR 글래스에 동력을 공급할 수 있게 됐다”고 덧붙였다.

C2R™은 전구체(precursors)를 물리적으로 분리하는 혁신적인 회전식 공간 ALD 설계를 특징으로 하며, 기존 ALD 대비 최대 100배 빠른 증착 속도(최대 2000nm/h)를 달성하면서도 탁월한 균일성과 정밀도를 유지한다. 또한 산화알루미늄(Al₂O₃), 이산화티타늄(TiO₂), 오산화탄탈륨(Ta₂O₅), 산화하프늄(HfO₂) 및 다층 스택을 포함한 다양한 고굴절률 소재를 지원하며, 최대 약 2.61(TiO₂ 기준 448nm)의 조절 가능한 굴절률과 약 3dB/cm의 낮은 광학 손실을 제공한다.

다른 주요 이점으로는 폴리머 기판과의 호환성을 위한 저온 처리(최저 100°C), 복잡한 회절격자에서의 형상 순응형(conformal) 갭필링, 1000MPa에서 -200MPa까지 응력 제어가 가능한 무응력(zero-stress) 코팅 등이 있다. 인시츄(in-situ) 광대역 모니터링은 실시간 최적화를 보장해 품질 저하 없이 더 두꺼운 다층 구조의 제작을 가능하게 한다. 이러한 역량은 광학 혁신 분야의 에너지 효율적이고 지속 가능한 제조 및 규제 준수를 향한 업계 트렌드에 부합한다.

이번 협력을 통해 AR 생태계는 XR 글래스를 넘어 차량용 헤드업 디스플레이 및 기업용 교육 도구를 포함한 더 넓은 애플리케이션으로 확장할 수 있는 입지를 확보하게 되며, 상용화와 시장 채택이 모두 가속화될 전망이다.